LibRar.Org.Ua — Бібліотека українських авторефератів


Головна Легка промисловість → Удосконалення технології УФ-лакування відбитків офсетного друку

епоксиакрилатних олігомерів та відсутність їх пожовтіння при зберіганні;

– виявлено зменшення у 2 рази індукційного періоду УФ-полімеризації досліджуваних лаків у присутності аргону, порівняно з азотом, що пояснюється його більшою питомою масою і кращою розчинністю;

– проведено класифікацію технологічних процесів формування лакових покриттів на друкарських відбитках в залежності від хімічного складу лаків;

– встановлено, що обробка коронним розрядом офсетних відбитків значно збільшує адгезію до них УФ-лаків, що пояснюється зростанням полярної складової поверхневого натягу задрукованої поверхні внаслідок її окиснення.

Практичне значення одержаних результатів полягає у тому, що розроблений новий склад УФ-лаку характеризується високою швидкістю полімеризації і може бути впроваджений у виробництво на вітчизняних підприємствах лакофарбової промисловості. Розроблений спосіб визначення липкості поверхні фотополімеризаційноздатних матеріалів дозволяє кількісно оцінити фотополімеризаційні перетворення лакових покриттів залежно від часу їх опромінювання. Вдосконалений метод визначення контактних кутів змочування дозволяє значно прискорити процес дослідження поверхневих явищ. Результати роботи впроваджені у навчальний процес студентів спеціальності7.092705 "Матеріали видавничо-поліграфічних виробництв".

Особистий внесок здобувача.Основні ідеї та наукові дослідження, які виносяться на захист, розроблені і отримані автором самостійно. У роботах автору належать:

- дослідження впливу вбираючої здатності і шорсткості поверхонь картонів на блиск одержаних покриттів [2, 5];

- синтез фотополімеризаційноздатних лакових композицій [3,19,20,24, 25,26];

- визначення складових поверхневого натягу паперу і фарби [4,11,15];

-досліджено реакційну здатність мономерів і олігомерів [8];

- дослідження кінетики розтікання УФ-лаків на різних типах поверхонь [5,6,12];

- дослідження адгезійних властивостей лакових композицій, мікротвердості лакових покриттів [7,21];

- дослідження зміни липкості плівок УФ-лаків в залежності від часу їх опромінення [9];

- дослідження впливу різних газових середовищ на час фотополімеризації УФ-лаків [10,14];

- проведення експерименту та визначення еластичності лакових покриттів [13];

- патентний пошук і конструктивна проробка механізмів та експериментальна перевірка можливості застосування способу [1,27];

- дослідження впливу концентрації фотоініціатора на кінетику фотополімеризації УФ-лакової композиції [23,17];

- проведення аналізу нових напрямків у технології УФ-лакування [16];

- проаналізував конструктивні особливості сучасних УФ-пристроїв [17];

- патентний пошук і розробка конструкції УФ-сушильного пристрою [28].

Апробація роботи. Основні результати роботи доповідалися на звітних науково-технічних конференціях професорсько-викладацького складу, наукових працівників і аспірантів УАД за 2001, 2002, 2003, 2005 роки, міжнародній науково-технічній конференції „Издательско-полиграфический комплекс на пороге третьего тысячелетия" (Минск 2001), ІІ-й науково-технічній конференції студентів і аспірантів „Друкарство молоде"(Київ, 2002), 4-й міжнародній конференції „Друкотехн-2002" (Львів, 2002).

Публікації. Матеріали дисертаційної роботи опубліковані в 28 наукових працях: сімнадцять статей у наукових збірниках та журналах, вісім у матеріалах і тезах конференцій. Отримано два патенти України та одну заявку на винахід.

Структура та об'єм дисертації. Дисертаційна робота складається із вступу, 5 розділів, висновків, списку використаних літературних джерел (159 найменувань), додатків. Матеріали роботи викладені на 142 сторінках, містять 70 рисунки і 16 таблиць.


ОСНОВНИЙ ЗМІСТ РОБОТИ


У вступі розкрито сутність наукової задачі, обґрунтовано актуальність роботи, сформульовано мету і задачі дослідження, наукову новизну роботи, окреслено завдання, які необхідно вирішити.

У першому розділі проаналізовано сучасні способи лакування друкарських відбитків, їх переваги і недоліки, викладені теоретичні уявлення про фізико-хімічні процеси під час нанесення лакових композицій на поверхню відбитків і про процеси фотополімеризації лакових покриттів на відбитках; проведений аналіз особливостей сучасних пристроїв для УФ-сушіння лакових покриттів, проведено класифікацію технологічних процесів формування захисно-декоративних покриттів (рис.1).

У другому розділі обґрунтовано вибір методик експериментальних досліджень. Для досягнення мети роботи, автором розроблений спосіб та виготовлений прилад для визначення липкості поверхні фотополімеризаційноздатних матеріалів. Принципова схема приладу для визначення липкості лакової плівки зображена на рис.2. Він складається з горизонтально встановленої пластини 2, яка приєднується до масивної стальної плити-основи 1 за допомогою опор 3. На поверхні пластини закріплюється досліджуваний зразок 4 довжиною 16 см, шириною 2,5 см. Алюмінієвий циліндр утримується в стані спокою при допомозі тримача 5. Відстань, на яку прокочується алюмінієвий циліндр по поверхні досліджуваного зразка, встановлюється обмежувачами у вигляді фотоелементів 6 і 9, які при проходженні повз них циліндра здійснюють запуск і зупинку секундоміра, який фіксує час проходження циліндром відповідної відстані з точністю 0,01 с. Циліндр приводиться в горизонтальний рух за допомогою вантажу масою Q, з яким він з'єднаний гнучким зв'язком, перекинутим через блок 8.

Рис. 1. Класифікація технологій формування захисно-декоративних покриттів на друкарських відбитках

Згідно розподілу сил та теореми про зміну кінетичної енергії, величина липкості має таку залежність:

,

де: КL – опір коченню циліндра (липкість), м; h – шлях, який пройшов циліндр, м; t – час проходження циліндром встановленої відстані, с; R – радіус циліндра, м; P – вага циліндра з вантажем, кг; Q – вага вантажу, кг;

g – прискорення вільного падіння, м/с2.


Для дослідження кінетики розтікання УФ-лаків на поверхнях різних субстратів використано оптико-цифрову систему. Система складається з цифрової камери, об'єктиву, джерела світла, матованого скла, столика з засобами регулювання горизонтального розміщення субстрату, на який наноситься краплиною УФ-лак. Отримане зображення сегменту краплини являє собою певну кількість елементів –пікселів, яка підраховується.




а) б)


в)

Етапи підготовки зображення до розрахунку контактного кута змочування (cos и):

а) зображення краплини отримане при фотографуванні цифровою камерою;

б) перетворення зображення в біти;

в) виділення зображення краплини для автоматичного розрахунку cos и за основими геометричними параметрами краплини (діаметра зони контакту краплини з твердим тілом d i висоти отриманого сегменту h) в пікселях.


У третьому