LibRar.Org.Ua — Бібліотека українських авторефератів


Головна Легка промисловість → Удосконалення технології УФ-лакування відбитків офсетного друку

внаслідок зростання полярної складової поверхневого натягу обробених поверхонь. Встановлено, що для паперу і шару фарби достатньою є потужність коронного розряду 100-120 Вт при швидкості переміщення матеріалу 30м/хв, оскільки подальше її збільшення майже не змінює поверхневого натягу.

  • Розроблено пристрій УФ-сушіння лакованих відбитків в середовищі аргону. Особливістю УФ-сушильного пристрою є те, що , камера, де буде відбуватися опромінення лакового покриття, розміщується набагато нижче від вісі вивідного транспортера друкарської машини, з ввідним та вивідним каналами розміщеними під кутом 45-600 стосовно горизонтальної площини. Таке розміщення камери і каналів дозволяє зменшити попадання повітря у камеру і забезпечити високу концентрацію аргону у зоні опромінення.


    СПИСОК ОПУБЛІКОВАНИХ ПРАЦЬ ЗА ТЕМОЮ ДИСЕРТАЦІЇ


  • Шибанов В.В., Репета В.Б., Маршалок И.Й., Стахира В.М. Липкость флексографских фотополимеризующихся материалов и методика ее определения // Издательско-полиграфический комплекс на пороге третьего тысячелетия: материалы международной научно-технической конференции.-Минск. БГТУ, 2001. –С. 124-132.

  • Репета В., Шибанов В. Вплив властивостей картону на блиск УФ-лакованих відбитків // Комп'ютерні технології друкарства. –Львів: УАД,- 2002. -№7. –С.199-201.

  • Репета В., Маршалок І., Шибанов В. Фотополімеризаційноздатні лакові композиції // Комп'ютерні технології друкарства. –Львів: УАД,- 2002. -№8. –С.188-190.

  • Репета В., Шибанов В. Поверхневий натяг паперу і фарби та його вплив на розтікання УФ-лаку // Комп'ютерні технології друкарства. –Львів: УАД,- 2002. -№9. –С.172-174.

  • Репета В.Б., Шибанов В.В., Маршалок І.Й. Вплив поверхневих властивостей картонів на якість продукції, оздобленої фотополімеризаційноздатними лаками // Поліграфія і видавнича справа.- 2002. -№38. – С.78-82.

  • Шибанов В.В., Репета В.Б., Муравський Л.І., Вороняк Т.І. Змочування картонів фотополімеризаційноздатними лаками // Наукові записки. –Львів: УАД,- 2002. -№5. –С.58-62.

  • Репета В., Шибанов В. Властивості покриттів утворених при фотополімеризації УФ-лаків // Квалілогія книги . –Львів: Афіша,- 2002. -№5. –С.44-46.

  • Репета В.Б., Шибанов В.В. Фотополімеризаційноздатні лакові композиції на основі епоксиакрилатних і уретанакрилатних олігомерів // Наукові записки. –Львів: УАД,- 2003. -№6. –С.59-61.

  • Репета В., Шибанов В. Липкість фотополімеризаційноздатних лаків та методика її визначення // Комп'ютерні технології друкарства. –Львів: УАД,- 2002. -№10. –С.157-160.

  • В.Б. Репета, І.Й. Маршалок, В.В. Шибанов. Ініціююча здатність фотоініціаторів та вплив молекулярного кисню на зносостійкість лакових плівок // Химия и химические технологии. – 2004. - №1. – С.132-134

  • Репета В.Б., Кукура Ю.А., Шибанов В.В. Влияние обработки поверхностей коронным разрядом на характер растекания УФ-лаков // ФлексоДрук Ревю и Спецвиды Печати.-№ 5.-2003.–С. 33-34.

  • Репета В. Шибанов В. Удосконалення технології УФ-лакування офсетних відбитків // Палітра друку.- 2004.-№1. –С. 76-77.

  • В.Репета, П. Ривак, В.Шибанов. Старіння УФ-лакових покриттів // Комп'ютерні технології друкарства. –Львів: УАД,- 2004. -№.11 –С. 222-224.

  • В.Репета, В.Шибанов. Вплив природи газового середовища на кінетику фотополімеризації УФ-лаків // Комп'ютерні технології друкарства. –Львів: УАД,- 2005. -№13. –С.266-268.

  • В. Репета, В. Шибанов. Оптимальний час висихання офсетних фарб перед УФ-лакуванням // Палітра друку.- 2005.-№4. –С. 70-71.

  • В. Репета, В. Шибанов. Новації у технології лакування в аркушевому офсетному друці // Палітра друку.- 2005.-№6. –С.55-57.

  • В.В. Шибанов, В.Б. Репета. Устройства, генерирующие УФ-излучение // Флексоплюс. – 2006.-№1, 2. –С.55-57, 54-59.

  • Репета В.Б. Вплив поверхневих властивостей картону і фарби на якість плівок, утворених внаслідок фотополімеризації УФ-лаків // Доповіді II-науково-технічної конференції студентів і аспірантів "Друкарство молоде ". -Київ. НТУУ"КПІ", 2002. –С.80-82.

  • Шибанов В.В., Маршалок И.Й., Репета В.Б. УФ-отверждаемые лаки на основе олигомерных эпоксиакрилатов // Восьмая международная конференция по химии и физикохимии олигомеров "Олигомеры-2002".-Москва-Черноголовка.2002. –С.291.

  • Репета В.Б., Шибанов В.В. Лаковые композиции фотохимического отверждения // Проблемы современной полиграфии: материалы 1 заочной международной научной конференции. -Омск. ОмГТУ.2002. –С.87-89

  • Репета В. Змочування і адгезія фотополімеризаційноздатних лаків // Доповіді IIІ-науково-технічної конференції студентів і аспірантів "Друкарство молоде".-Київ. НТУУ"КПІ", 2003. –С. 89-91.

  • Репета В.Б. Фотополімеризаційноздатні лаки для оздоблення друкованої продукції // Тези V Української конференції молодих вчених з ВМС. –С.115.

  • Репета В.Б., Шибанов В.В. Вплив газового середовища на кінетику фотополімеризації УФ-лаків // Матеріали першої міжнародної науково-практичної конференції „Науковий потенціал світу 2004". Том 75. Хімія та хімічні технології. - Дніпропетровськ: Наука і освіта, –С. 34-35.

  • Шибанов В.В., Репета В.Б., Маршалок И.Й. УФ-чувствительные лаки и адгезивы //Пластмассы со специальными свойствами: технологии и применение. Межв. зборник научных трудов.-СПб., СПбГТИ(ТУ), 2004. –С.80-82.

  • Шибанов В.В., Репета В.Б., Маршалок И.Й. Эпоксиакрилатные УФ-отверждаемые лаки // Тезисы докладов. Девятая международная конференция по химии и физикохимии олигомеров "Олигомеры-2005".-Москва-Черноголовка-Одесса. 2005. –С.359.

  • Патент України №72305. Фотополімеризаційноздатний лак для покриття друкарських відбитків // Шибанов В.В., Репета В.Б. – Заявл.14.08.2002. Опубл. 15.02.2005. Бюл.№2.

  • Патент України №73325. Спосіб визначення липкості поверхні фотополімеризаціноздатних матеріалів і пристрій для його реалізації // –Шибанов В.В., Репета В.Б., Стахіра В.М. Заявл.07.05.2002. Опубл. 15.07.2005. Бюл.№7.

  • Заявка на винахід № 2006 05321. Спосіб сушіння фотополімеризаційноздатних лаків ультрафіолетовим випромінюванням і пристрій для його реалізації //Репета В.Б., Шибанов В.В., Босак В.О. Заявл. 15.05.2006.



    АНОТАЦІЯ


    Репета В.Б. Удосконалення технології УФ-лакування відбитків офсетного друку. – Рукопис.

    Дисертація на здобуття наукового ступеня кандидата технічних наук за спеціальністю 05.05.01. – машини і процеси поліграфічного виробництва. – Українська академія друкарства, Львів, 2006.

    Дисертацію присвячено удосконаленню технології УФ-лакування відбитків офсетного друку.

    На основі визначального фактору – хімічного складу лакових композицій – здійснено класифікацію технологій формування прозорих лакових покриттів на друкарських відбитках.

    Досліджено кінетику фотополімеризації УФ-лаків, виявлено екстремальний характер залежності липкості від часу фотоініційованої радикальної полімеризації в аеробних умовах тонких шарів


  •